Gentlefrax 1550 nm niet-ablatieve fractionele erbiumlaser

Gentlefrax 1550 nm niet-ablatieve fractionele erbiumlaser

Professionele niet-ablatieve fractionele 1550-nm-laser voor gecontroleerde huidvernieuwing, textuurverbetering en litteken/post-acneprotocollen.

Belangrijkste toepassingen

• Fractionele huidresurfacing
• Behandeling van littekens en post-acne sporen
• Huidtextuur en poriën
• Huidverjonging

Technische kenmerken

• Golflengten: 1550 nm
• Technologie: niet-ablatieve fractionele laser
• Energie: bronbereiken: 10–15 / 20–40 / 40–60 / 50–70 / 70–90 mJ
• Spotgrootte: dichtheid ca. 150 / 200–250 / 300–350 microbundels/cm²

Professioneel gebruik: Het apparaat is bedoeld voor professioneel gebruik door getrainde operators. Behandelparameters moeten worden gekozen volgens de officiële documentatie van de fabrikant, de individuele huid-/lichaamsconditie en de lokaal geldende vereisten.